掩模對準光刻機系統

一、產品特色

      EVG ® 620 NT提供國家的本領域掩模對準技術在蕞小化的占位面積，支持高達150毫米晶圓尺寸。

二、技術數據

      EVG620 NT以其多功能性和可靠性而著稱，在蕞小的占位面積上結合了優良的對準功能和蕞優化的總體擁有成本，提供了優于其他品牌的掩模對準技術。它是光學雙面光刻的理想工具，可提供半自動或自動配置以及可選的全覆蓋Gen 2解決方案，以滿足大批量生產要求和制造標準。擁有操作員友好型軟件，蕞短的掩模和工具更換時間以及高效的*服務和支持，使它成為任何制造環境的理想解決方案。

      EVG620 NT或容納的EVG620 NT Gen2掩模對準系統配備了集成的振動隔離功能，可在各種應用中實現出色的曝光效果，例如，對薄而厚的光刻膠進行曝光，對深腔進行構圖并形成可比的形貌，以及對薄而易碎的材料（例如化合物半導體）進行加工。此外，半自動和全自動系統配置均支持EVG專有的SmartNIL技術。

三、光刻機特征

      晶圓/基板尺寸從小到150 mm / 6''

      系統設計支持光刻工藝的多功能性

      易碎，薄或翹曲的多種尺寸的晶圓處理，更換時間短

      帶有間隔墊片的自動無接觸楔形補償序列

      自動原點功能，用于對準鍵的精確居中

      具有實時偏移校正功能的動態對準功能

      支持最新的UV-LED技術

      返工分揀晶圓管理和靈活的盒式系統

      自動化系統上的手動基板裝載功能

      可以從半自動版本升級到全自動版本

      蕞小化系統占地面積和設施要求

      多用戶概念（無限數量的用戶帳戶和程序，可分配的訪問權限，不同的用戶界面語言）

      優良的軟件功能以及研發與全 面生產之間的兼容性

      便捷處理和轉換重組

      遠程技術支持和SECS / GEM兼容性

四、附加功能

      鍵對準

      紅外對準

      納米壓印光刻（NIL）

五、EVG620 NT技術數據

1）曝光源：

      汞光源/紫外線LED光源

2）優良的對準功能：

      手動對準/原位對準驗證

3）自動對準：

      動態對準/自動邊緣對準

      對準偏移校正算法

4）EVG620 NT產能：

      全自動：第 一批生產量：每小時180片

      全自動：吞吐量對準：每小時140片晶圓

      晶圓直徑（基板尺寸）：高達150毫米

5）對準方式：

      上側對準：≤±0.5 µm

      底側對準：≤±1,0 µm

      紅外校準：≤±2,0 µm /具體取決于基材

      鍵對準：≤±2,0 µm

      NIL對準：≤±3.0 µm

6）曝光設定：

      真空接觸/硬接觸/軟接觸/接近模式/彎曲模式

7）楔形補償：

      全自動軟件控制

8）曝光選項：

      間隔曝光/洪水曝光/扇區曝光

六、系統控制

1）操作系統：

      Windows

2）文件共享和備份解決方案/無限制 程序和參數

3）多語言用戶GUI和支持：

      CN，DE，FR，IT，JP，KR

4）實時遠程訪問，診斷和故障排除

5）工業自動化功能：

      盒式磁帶/ SMIF / FOUP / SECS / GEM /薄，彎曲，翹曲，邊緣晶圓處理

6）納米壓印光刻技術：SmartNIL ®