等離子體增強化學氣相沉積（PECVD）系統

簡要描述：Vision 410等離子體增強化學氣相沉積（PECVD）系統--PTI 790+ 系列的延續，延續了服務于多樣化市場的成功經驗

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詳細介紹

1.靈活的沉積能力

·基于硅的沉積工藝-氧化物、氮化物、氧氮化物、非晶硅（a-Si）、碳化硅（SiC）

·研究與開發

·原型制作

·小批量生產-光子學、固態照明、MEMS和納米技術

·應用領域：層間絕緣層、鈍化層、封裝層、掩模層、抗反射層

2.性能價值

1.大尺寸手動裝載載物臺(406mm)

2.出色的潔凈度

3.高均勻性

4.高吞吐量

5.可靠的軟件

6.小巧的占地面積

7.具有成本效益

8.易于維護

9.采用行業頭部組件

3.經過驗證的解決方案

·延續了PTI 790/790+的設計理念

o手動裝載，無需負載鎖（可支持批次或單片晶圓）

o已安裝超過400套系統

o技術簡單，結構堅固價格具有競爭力，品質可靠

等離子體增強化學氣相沉積（PECVD）系統

小巧的占地面積，節省空間

等離子體增強化學氣相沉積（PECVD）系統

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